光刻机
- 制造厂商：EVG
- 购置日期：暂无信息
- 型号：EVG620
- 生产国别：奥地利
- 仪器类别：工艺实验设备
- 安放地址：江苏省
跨区域科技政策：
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上海
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- 仪器详情
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对晶圆上光刻胶进行图形压印、紫外曝光操作
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暂无信息
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暂无信息
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1.基片尺寸： 2寸 到 150mm (直径) 或为3"×3" 到 6"×6"； 2.基片双面对准，键合预对准，紫外固化纳米压印； 3.光刻分辨率：<0.5微米； 4.套刻精度：<1微米； 5.曝光间距设置：0 到300 微米； 6.对版工作台运动范围：X:±10mm； Y: ±5mm； Theta: ±5°； 7.光源波长：435nm和365nm； 8.光源均匀性：<5%； 9.四种曝光方式(真空接触、低真空接触、软接触、硬接触)； 10.工艺参数可存储调用，节省再设置的时
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物理学
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对晶圆上光刻胶进行图形压印、紫外曝光操作
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对晶圆上光刻胶进行图形压印、紫外曝光操作
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400/h
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暂无信息
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暂无信息
中科院苏州生物医学工程技术研究所
机构介绍: 中国科学院苏州生物医学工程技术研究所（以下简称“苏州医工所”）是中国科学院唯一以生物医学仪器、试剂和生物材料为主要研发方向的国立研究机构，由中国科学院、江苏省和苏州市人民政府三方共同出资建设。自2012年11月正式成立以来，研究所始终秉承“忠诚 务实 合作 创新”的发展理念，定位于“面向生物医学的重大需求，开展先进生物医学仪器、试剂和生物材料等方面的基础性、战略性、前瞻性的研究工作，引领生物医学工程技术的发展，建成医疗仪器科技创新与成果转化平台，成为不可替代的国立研究机构”。
资质能力：
